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ASML宣布英特尔已独霸High

ASML宣布,宣布英特尔正在Intel 18A工艺上采取High-NA EUV光刻技能 ,英特花费部分代号“Panther Lake”的尔已第三代酷睿Ultra系列措置器,成了业界首个采取High-NA EUV光刻技能除夜局限花费逻辑芯片的独霸企业 。如今英特尔位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的宣布Intel 18A花费线已完成High-NA EUV两重认证,良品率抵达了现有NXE EUV平台的英特程度。

ASML宣布英特尔已独霸High-NA EUV光刻技能

ASML展示 ,尔已畴昔数十年里 ,独霸与英特尔不时贯穿连接严密合作鞭挞光刻技能的宣布展开,并支撑半导体的英特延续扩大年夜大年夜大年夜大年夜 。High-NA EUV是尔已极紫外光刻技能生前程程里特别很是次要的下一步 ,旨在为进步先辈芯片建造供给更切确的独霸图案化身手 。将来单方将在High-NA EUV技能预备方面延续展开密吻合作,宣布并屈就客户需求矫捷将其整合到将来制程节点中 。英特

2023年尾 ,尔已ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机,型号为TWINSCAN EXE:5000的琐细。英特尔将其作为履行机,于2024年4月在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的Fab D1X完成拆卸 。供给0.55数值孔径,与此前设备0.33数值孔径透镜的EUV琐细比照,精度会有所进步,可以完成更高分辨率的图案化 ,以完成更小的晶体管特点 。

旧年尾,英特尔拆卸了新的TWINSCAN EXE:5200B琐细 ,属于第二代High-NA EUV  ,是如今全球最进步先辈的光刻机 。新琐细还汲引了套刻精度,抵达了0.7nm ,这是创建在英特尔之前一年多对High-NA EUV光刻机独霸经验之上 。



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